《来自啊_5072的回答：》
二次胶态二氧化硅浆料是以高纯硅粉为原料，通过特殊工艺生产的一种高纯低金属离子抛光产品。广泛用于各种材料的纳米级高平坦化抛光。例如，硅片、复合晶体、精密光学器件、宝石等的抛光。可生产不同粒径(10-150纳米)的产品，满足用户需求。根据不同的酸碱度，可分为酸性抛光液和碱性抛光液。
《来自七月上的回答：》
第二胶态二氧化硅浆料的配方为二氧化硅含量(w%) 15-30，Na2O含量≤0.3，重金属杂质含量≤50 ppb。应用领域在光通信领域，配合本公司专门为光纤连接器开发的抛光产品，可以达到超细抛光效果。抛光后，连接器端面无划痕和缺陷，3D指数和反射衰减指数达到国际标准。
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二次胶态二氧化硅浆料是以高纯硅粉为原料，通过特殊工艺生产的一种高纯低金属离子抛光产品。广泛用于各种材料的纳米级高平坦化抛光。例如，硅片、复合晶体、精密光学器件、宝石等的抛光。可生产不同粒径(10-150纳米)的产品，满足用户需求。根据不同的酸碱度，可分为酸性抛光液和碱性抛光液。
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第二胶态二氧化硅浆料的配方为二氧化硅含量(w%) 15-30，Na2O含量≤0.3，重金属杂质含量≤50 ppb。应用领域在光通信领域，配合本公司专门为光纤连接器开发的抛光产品，可以达到超细抛光效果。抛光后，连接器端面无划痕和缺陷，3D指数和反射衰减指数达到国际标准。
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